Máquina de Revestimento Laboratorial
Máquina de Revestimento por Imersão a Alta Temperatura
Número do item : TB27
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Temperatura de aquecimento nominal
- 1000°C
- Faixa de velocidade de retirada
- Três estágios definidos independentemente, 1-200 mm/min
- Precisão do controle de temperatura
- +/-1°C
Envio:
Entre em contato conosco para obter detalhes de envio. Aproveite Garantia de envio dentro do prazo.
Por Que Nos Escolher
Processo de pedido fácil, produtos de qualidade e suporte dedicado para o sucesso do seu negócio.
Visão Geral do Produto


Este sistema de revestimento por imersão a alta temperatura foi projetado para fluxos de trabalho de pesquisa que exigem imersão controlada, retirada programada e consolidação térmica rápida de materiais de filme em fase líquida. Um substrato é fixado sob o fio de retirada, baixado na caixa de carregamento para imersão e, em seguida, retornado através do tubo do forno para aquecimento e solidificação do filme. O seu forno integrado suporta uma temperatura de aquecimento nominal de 1000°C, estendendo o trabalho de revestimento por imersão muito além dos equipamentos convencionais de baixa temperatura.
O equipamento é adequado para estudos de crescimento e revestimento de filmes finos envolvendo filmes cerâmicos, filmes de cristal, filmes de materiais de bateria e nanofilmes especializados. Universidades, institutos de pesquisa e laboratórios industriais podem usar a unidade onde o movimento de revestimento repetível e um perfil térmico definido são importantes para o desenvolvimento experimental. Acomoda a operação em nitrogênio, argônio, outros gases protetores inertes seguros ou atmosferas oxidantes.
A confiabilidade é construída em torno do controle de programa PLC, um motor de passo de alta precisão e transmissão por fio suspenso destinada a reduzir a vibração durante a retirada. Três zonas de velocidade programadas independentemente alinham o movimento mecânico com as fases de baixa temperatura, alta temperatura e resfriamento. A plataforma de processo resultante oferece aos pesquisadores uma maneira prática de desenvolver métodos de formação de filme a alta temperatura com movimento controlado, operação clara e limpeza direta.
Principais Características
-
Ambiente de Aquecimento Nominal de 1000°C: O forno de alta temperatura integrado possui uma temperatura de aquecimento nominal de 1000°C e uma temperatura máxima de aquecimento de 1100°C. Permite estudos de revestimento e cura para materiais que não podem ser processados adequadamente em sistemas convencionais limitados a temperaturas abaixo de 200°C.
-
Três Zonas de Retirada Definidas Independentemente: O caminho de movimento é dividido em zonas fixas de baixa temperatura, alta temperatura e resfriamento. Cada zona pode receber sua própria velocidade de retirada de 1-200 mm/min, permitindo que o perfil de deslocamento seja adaptado aos requisitos de imersão, aquecimento e resfriamento.
-
Acionamento de Precisão Controlado por PLC: O controle de programa PLC e um motor de passo de alta precisão proporcionam um movimento programado repetível. A abordagem de transmissão por fio suspenso suporta a redução de vibração durante o deslocamento vertical, ajudando a manter um manuseio estável de substratos leves e revestimentos úmidos.
-
Tempo de Permanência Controlado para Processamento Térmico: O tempo de permanência de cozimento é ajustável de 1-999 s. Isso fornece um período de espera definido para a solidificação do filme dentro da sequência do processo térmico, sem exigir que os operadores cronometrem manualmente cada ciclo.
-
Compatibilidade de Atmosfera: O sistema pode operar com nitrogênio, argônio e outros gases protetores inertes seguros, bem como em atmosferas oxidantes. Essa flexibilidade suporta estudos de materiais que exigem a seleção de atmosfera durante o tratamento de filme a alta temperatura.
-
Capacidade Definida de Substrato e Carga: O equipamento acomoda substratos de amostra medindo C75 mm x L25 mm x E1-4 mm e suporta uma carga máxima de retirada de <=200 g. Um comprimento efetivo de imersão de 60 mm estabelece a faixa de imersão utilizável para a configuração especificada.
-
Controle Preciso da Temperatura do Forno: Um controlador de temperatura inteligente de vários estágios, termopar tipo K e precisão de controle declarada de +/-1°C suportam a operação controlada do forno. A taxa de aquecimento recomendada é de 10°C/min para rampas térmicas gerenciadas.
-
Interface de Tela Sensível ao Toque Focada no Operador: Uma tela sensível ao toque colorida de 4,3 polegadas apresenta uma interface de controle simples e clara, adequada para a operação laboratorial de rotina. O design suporta a configuração eficiente de parâmetros para usuários que desenvolvem ou repetem programas de revestimento.
-
Consideração sobre o Fio de Alta Temperatura: O fio de retirada padrão destina-se a temperaturas de trabalho de até 800°C. O trabalho entre 800°C e 1000°C requer um fio especialmente personalizado ou um fio fornecido pelo cliente, garantindo que o componente mecânico seja selecionado para o dever térmico pretendido.
Aplicações
| Aplicação | Descrição | Principal Benefício |
|---|---|---|
| Desenvolvimento de filme fino cerâmico | Mergulha substratos cerâmicos em material de revestimento em fase líquida e, em seguida, retira-os através de aquecimento controlado para consolidação do filme. | Suporta condições de processamento a alta temperatura relevantes para a pesquisa de filmes cerâmicos. |
| Pesquisa de filme de cristal | Fornece retirada de substrato programada e tratamento em forno para estudos de filmes finos baseados em cristal. | Zonas de deslocamento controladas independentemente suportam exposição térmica repetível durante os ciclos de revestimento. |
| Estudos de filmes de materiais de bateria | Processa filmes de materiais de bateria onde o revestimento por imersão controlado e a solidificação a temperatura elevada fazem parte do desenvolvimento laboratorial. | Combina movimento de revestimento e tratamento em forno em um fluxo de trabalho definido. |
| Preparação de nanofilmes especializados | Suporta pesquisas envolvendo nanofilmes especializados formados a partir de materiais de filme em fase líquida. | Configurações ajustáveis de velocidade e tempo de permanência permitem a investigação controlada de variáveis de processo. |
| Experimentos de revestimento em atmosfera inerte | Executa estudos de revestimento e aquecimento com nitrogênio, argônio ou outros gases protetores inertes seguros. | Permite que os pesquisadores selecionem uma atmosfera protetora apropriada para seu processo experimental. |
| Tratamento térmico em atmosfera oxidante | Suporta fluxos de trabalho de revestimento por imersão que exigem uso em atmosfera oxidante. | Fornece uma plataforma flexível para comparar o comportamento do filme dependente da atmosfera. |
| Pesquisa de materiais em universidades e institutos | Atende a programas laboratoriais que investigam futuras tecnologias de formação de filme a alta temperatura. | A operação direta na tela sensível ao toque e a limpeza conveniente suportam o uso experimental frequente. |
Especificações Técnicas
| Parâmetro | Especificação |
|---|---|
| Número do item do produto | TB27 |
| Nome do produto | Máquina de revestimento por imersão a alta temperatura |
| Modelo do produto | TB27 |
| Fonte de alimentação de instalação | Monofásica AC220V 50/60Hz, tomada padrão nacional 10A x2 |
| Requisito de aterramento | Necessário bom aterramento |
| Requisito de proteção frontal | Necessário disjuntor de ar de 16A |
| Temperatura do local de operação | 25°C +/-15°C |
| Umidade do local de operação | 55%Rh +/-10%Rh |
| Tensão de operação da unidade principal de retirada | DC24V 3.75A; adaptador de energia padrão AC100-240V |
| Potência nominal da unidade principal de retirada | 50W |
| Tipo | Tipo de alta temperatura controlado por programa com forno de alta temperatura |
| Motor de acionamento | Motor de passo de alta precisão |
| Faixa de configuração de velocidade | Operação em três estágios; cada estágio definido independentemente; 1-200 mm/min |
| Tempo de permanência de cozimento | 1-999 s |
| Deslocamento total | Zona de baixa temperatura + zona de alta temperatura + zona de resfriamento = 620 mm |
| Deslocamento do primeiro estágio, zona de baixa temperatura | 236 mm, não ajustável |
| Deslocamento do segundo estágio, zona de alta temperatura | 150 mm, não ajustável |
| Deslocamento do terceiro estágio, zona de resfriamento | 234 mm, não ajustável |
| Comprimento efetivo de imersão | 60 mm |
| Carga máxima de retirada | <=200 g |
| Tamanho do substrato da amostra | C75 mm x L25 mm x E1-4 mm |
| Exibição e controle | Tela sensível ao toque colorida de 4,3 polegadas |
| Dimensões totais | Largura 560 mm x profundidade 470 mm x altura 1550 mm |
| Peso total | Aprox. 50 kg, incluindo forno de alta temperatura |
| Tensão de operação do forno de alta temperatura | Monofásica AC220V 50/60Hz |
| Potência nominal do forno de alta temperatura | 1.5KW |
| Temperatura máxima de aquecimento | 1100°C |
| Temperatura nominal de aquecimento | 1000°C |
| Faixa de temperatura de operação com fio de retirada padrão | RT temperatura ambiente a +800°C |
| Condição de operação do fio de retirada padrão | Adequado para <=800°C |
| Requisito de fio de retirada acima de 800°C | Personalização especial ou fio fornecido pelo cliente necessário para operação de 800°C-1000°C |
| Taxa de aquecimento recomendada | 10°C/min |
| Precisão do controle de temperatura | +/-1°C |
| Método de controle e configuração de temperatura | Regulador de temperatura inteligente, controlador de temperatura de vários estágios |
| Termopar | Tipo K |
| Dimensões da câmara do forno | Phi80 mm x 330 mm |
| Especificação do tubo do forno | Phi50 mm diâmetro externo x phi45 mm diâmetro interno x 600 mm comprimento |
| Entrada do adaptador de energia fornecido | AC100-240V 50/60Hz |
| Saída do adaptador de energia fornecido | DC-24V 3.75A |
| Referência da fonte de alimentação real do equipamento | Prevalece a especificação da placa de identificação traseira do produto |
| Fonte de alimentação opcional do forno | Monofásica personalizável AC110V 50/60Hz |
A geometria de deslocamento especificada cria uma sequência definida através da zona de baixa temperatura, da zona de alta temperatura e da zona de resfriamento. Como as distâncias individuais de deslocamento são fixas, os pesquisadores podem concentrar o desenvolvimento do processo nas configurações de velocidade ajustáveis independentemente, no tempo de permanência de cozimento, no programa de temperatura do forno e na atmosfera selecionada. Isso fornece uma base clara para registrar e repetir condições experimentais em todos os testes de revestimento.
As dimensões do tubo e da câmara do forno devem ser revisadas em relação ao acessório de substrato pretendido e à configuração experimental antes da aquisição. O tamanho do substrato declarado, o comprimento de imersão e o limite de carga de retirada descrevem o envelope operacional padrão. Para aplicações que exigem operação acima de 800°C, o arranjo do fio de retirada deve ser confirmado durante a especificação, pois o fio padrão destina-se ao uso até 800°C.
Por que Escolher Este Produto
-
Capacidade de alta temperatura construída para o propósito: Este sistema combina a retirada por imersão programada com o processamento baseado em forno a uma temperatura nominal de 1000°C, fornecendo uma plataforma focada para pesquisa de crescimento de filmes que exige condições térmicas elevadas.
-
Controle de processo mecânico repetível: Controle PLC, um motor de passo de alta precisão, transmissão por fio suspenso, três estágios de velocidade ajustáveis e tempo de permanência configurável suportam um movimento experimental consistente de ciclo para ciclo.
-
Flexibilidade de processo sem complexidade desnecessária: Operação em atmosfera inerte ou oxidante, controle de temperatura de vários estágios e uma tela sensível ao toque de 4,3 polegadas permitem que os laboratórios configurem as condições principais diretamente para seu fluxo de trabalho de desenvolvimento de materiais.
-
Limites de engenharia definidos para especificação confiável: Limites claros para dimensões de substrato, comprimento efetivo de imersão, carga de retirada, zonas de deslocamento fixas, dimensões do forno e requisitos de fio de alta temperatura ajudam as equipes de compras a avaliar a adequação antes da instalação.
-
Preparado para a pesquisa de formação de filmes em evolução: O design destina-se a atender às necessidades futuras de tecnologia de formação de filmes a alta temperatura, mantendo-se adequado para o trabalho de rotina em laboratórios acadêmicos, institucionais e industriais.
Entre em contato conosco para obter um orçamento ou uma solução personalizada, incluindo a confirmação dos requisitos de fio de retirada de alta temperatura e forno AC110V para o seu processo.
Confiado pelos Líderes da Indústria
Folha de Dados do Produto
Máquina de Revestimento por Imersão a Alta Temperatura
SOLICITAR UM ORÇAMENTO
Nossa equipe profissional responderá a você em até um dia útil. Sinta-se à vontade para nos contatar!
Produtos relacionados
Máquina de Revestimento por Imersão (Dip Coating) Controlada por CLP para Deposição Programável de Películas Finas
Máquina de revestimento por imersão controlada por CLP com velocidade de 1-200 mm/min, imersão, secagem e ciclos programáveis, design compacto, certificação CE e secagem opcional por temperatura constante para crescimento preciso de películas finas em laboratório, abrangendo aplicações de pesquisa e industriais com controle de processo repetível e confiável e operação fácil.
Máquina de Revestimento de Filmes com Aquecimento Inferior
Máquina de revestimento de filmes com aquecimento inferior para baterias de cristal cerâmico e filmes nano, com velocidade de revestimento ajustável, controle preciso da espessura, fixação a vácuo e secagem aquecida da temperatura ambiente até 150°C, proporcionando pesquisa laboratorial confiável e processamento de materiais com resultados reproduzíveis
Pequena Máquina de Revestimento Laboratorial Contínua para Aplicação Precisa de Película Húmida
Pequena máquina de revestimento laboratorial contínua para aplicação precisa de película húmida, suporta o revestimento repetível de adesivos, papel e películas com velocidade ajustável e uma largura de trabalho de 30 cm para ensaios de produção laboratorial fiáveis e desenvolvimento de processos de revestimento em diversos substratos.
Pequena Máquina Automática de Secagem para Revestimento de Filmes de Laboratório
Pequena máquina automática de secagem para revestimento de filmes de laboratório, com velocidade de revestimento ajustável, controle preciso da espessura, fixação a vácuo do substrato e secagem aquecida a 130°C para pesquisa de baterias, cerâmicas, cristais e nanofilmes em caixas de luvas e laboratórios de materiais avançados, garantindo uma preparação consistente de filmes em alta temperatura
Máquina Automática de Secagem e Revestimento de Películas
Máquina automática de revestimento e secagem de películas para elétrodos de bateria e materiais avançados, com fixação a vácuo, velocidade de revestimento ajustável, controlo de espessura de precisão e aquecimento uniforme para investigação laboratorial fiável, processos repetíveis de preparação de películas finas a alta temperatura e desenvolvimento controlado.
Máquina Personalizável de Revestimento por Extrusão em Placa Plana para Bancada de Laboratório
Máquina personalizável de revestimento por extrusão para bancada de laboratório, destinada a eletrodos de baterias de lítio, filmes solares, camadas de polímeros condutores, substratos OLED, controle preciso de espessura, aquecimento uniforme e pesquisa compatível com glovebox.
Máquina de Revestimento e Secagem de Películas Automática para Laboratórios de Baterias de Lítio
Máquina automática de revestimento e secagem de películas para laboratórios de baterias de lítio com aquecimento até 130°C, velocidade de revestimento ajustável, placa de vácuo, raspador de precisão e temporizador de secagem programável para pesquisa de elétrodos 18650, garantindo revestimentos suaves e reprodutíveis em diversos substratos, ideal para aplicações de desenvolvimento em escala de bancada.
Máquina de prensa hidráulica automática de alta temperatura com placas aquecidas para laboratório
Prensa a quente de alta temperatura KINTEK: Sinterização de precisão e processamento de materiais para laboratórios. Atingir temperaturas extremas e resultados consistentes. Soluções personalizadas disponíveis.
Máquina de Teste de Revestimento Contínuo de Película de Bancada para Baterias Cilíndricas 18650
Máquina de revestimento contínuo de bancada para elétrodos de baterias de lítio, células cilíndricas 18650, investigação de películas cerâmicas, películas de cristal e nanofilmes, oferecendo largura de revestimento ajustável, controlo preciso da espessura, rebobinagem automática e regulação independente da temperatura do forno PID para laboratórios universitários e produção em pequena escala.
Revestidora de Mesa com Matriz de Ranhura e Placa Plana para Laboratório de Baterias
A revestidora de mesa de precisão com matriz de ranhura e placa plana para laboratório de baterias produz filmes uniformes, com alimentação por seringa selada, fixação a vácuo, velocidade ajustável, aquecimento controlado e revestimento repetível de eletrodos para pesquisas avançadas de materiais de íons de lítio, solares, poliméricos e OLED.
Prensa a Quente Automática de Bancada para Altíssima Temperatura de 500°C com 5 Toneladas e Placas de 180x180mm
Conheça a prensa a quente automática de bancada para altíssima temperatura de 500°C, com força de 5 toneladas, placas de 180x180mm e controle hidráulico totalmente automático com resfriamento a água integrado. Perfeita para pesquisa em polímeros, compósitos, baterias e materiais avançados, garantindo resultados precisos e consistentes no processamento térmico.
Prensa Quente Automática de Ultra-Alta Temperatura com Força de 40 Toneladas e Placas de 300x300mm
Projetada para condições laboratoriais extremas, esta prensa quente automática de ultra-alta temperatura oferece aquecimento preciso a 500°C, força programável de 40 toneladas e duas placas independentes de 300x300mm, complementada por um sistema de resfriamento a água ativo CW5200 para garantir desempenho seguro e duradouro para pesquisa de materiais avançados.
Prensa Quente Automática de Ultra Alta Temperatura 500°C 5 Toneladas, Placas 180x180mm, Design de Bancada
A prensa quente automática compacta da KINTEK oferece 500°C de temperatura ultra-alta, força de 5 toneladas e placas aquecidas precisas de 180x180mm — ideal para pesquisa avançada de polímeros, cerâmicas e baterias. O design de bancada com resfriamento a água e controle PID garante resultados seguros e repetíveis. Solicite um orçamento.
Prensa Aquecida Automática de Alta Pressão para Laboratório 90 Toneladas, Placas de 300x300mm, Precisão de Pressão de 0,2%, 200 Graus C
Conheça a prensa automática de alta pressão para laboratório de 90 toneladas com placas aquecidas de 300x300mm, que oferece precisão de pressão de 0,2% e controle de temperatura PID até 200°C. Ideal para fabricação de eletrodos de baterias, conformação de polímeros de alto desempenho, encapsulamento de semicondutores e cura de compósitos. Solicite um orçamento hoje mesmo.
Matriz de Extrusão de Ranhura de Modo Duplo e Aplicador de Revestimento com Lâmina Doctor Blade para Pesquisa de Filmes de Bateria
Aplicador de revestimento laboratorial de alta precisão com matriz de ranhura de modo duplo e lâmina doctor blade, fabricado em aço inoxidável SUS630. Oferece ajuste digital de 1 mícron e retitude dos lábios inferior a 4 mícrons para pesquisa de baterias de lítio, OLEDs e filmes finos funcionais.
Agitador Elétrico de Vácuo com Aquecimento a Temperatura Constante
Agitador elétrico de vácuo com aquecimento a temperatura constante para o processamento de pastas viscosas sem bolhas, com velocidade ajustável, aquecimento preciso, recipiente de vácuo transparente e desempenho laboratorial confiável em aplicações de pesquisa farmacêutica, adesiva, de fragrâncias, cosmética, revestimentos, pigmentos, aditivos, eletrônica e novas energias
Misturador a Vácuo com Aquecimento Elétrico de Temperatura Constante
Misturador a vácuo com aquecimento elétrico de temperatura constante para processamento de materiais viscosos sem bolhas, com vácuo ajustável, aquecimento preciso, controle de velocidade variável e visibilidade através do recipiente transparente
Prensa Térmica Automática de Alta Tonelagem com Capacidade de 100 Toneladas, Pressão de 10,9 MPa e Controle de Temperatura e Pressão PID com Touchscreen de 7 Polegadas
Explore a prensa térmica automática de alta tonelagem, uma solução robusta para processamento avançado de materiais com capacidade de 100 toneladas e pressão máxima de 10,9 MPa, completa com controle de temperatura e pressão de duplo laço PID e touchscreen de 7 polegadas, adequada para moldagem de cerâmicas, polímeros e compósitos.
Prensa a Quente Automática de Alta Pressão de 90 Toneladas, Placas de 300x300 mm, Precisão de Pressão de 0,2%, 200°C
Descubra a prensa a quente automática de alta pressão que entrega 90 toneladas de força em placas de 300×300 mm com precisão de pressão de 0,2% e controle PID preciso de temperatura até 200°C, ideal para pesquisa em baterias, encapsulamento de semicondutores, moldagem de polímeros e densificação de compósitos.
Prensa Hidráulica Aquecida Automática com Placas Quentes para Laboratório
Prensa Térmica de Laboratório Automática KINTEK: Aquecimento de precisão, controle programável e resfriamento rápido para preparação eficiente de amostras. Aumente a produtividade do seu laboratório hoje mesmo!