Máquina de Revestimento de Película com Aquecimento Inferior

Visão Geral do Produto

Esta máquina de revestimento de película com aquecimento inferior foi concebida para investigação de revestimento a alta temperatura envolvendo películas cerâmicas, películas de cristal, películas de materiais de bateria e nano películas especializadas. As suas funções integradas de revestimento, fixação a vácuo e aquecimento inferior suportam a formação e secagem controlada de películas num sistema laboratorial compacto. O equipamento é adequado para programas de investigação que estudam futuras tecnologias de formação de películas sob condições de temperatura elevada.

O sistema combina o movimento de revestimento programável com uma placa de vácuo de alumínio e aquecimento ajustável. Os investigadores podem definir a velocidade de revestimento, a distância de curso, a temperatura de aquecimento e o tempo de secagem através do interface de ecrã tátil. Isto torna a unidade adequada para a preparação de elétrodos, desenvolvimento de películas funcionais, estudos de materiais avançados e avaliação de processos à escala laboratorial.

Uma lâmina micrométrica de precisão, uma estrutura rígida de chapa metálica, controlo digital de temperatura e uma bomba de vácuo isenta de óleo proporcionam uma base prática para um trabalho repetível. O equipamento está configurado para ambientes laboratoriais onde a espessura de revestimento controlada, o posicionamento estável do substrato, as dimensões compactas e a operação simples são importantes para a produtividade da investigação diária.

Principais Características

• Aquecimento e Secagem Inferior: O sistema de aquecimento de placa de vácuo integrado opera desde a temperatura ambiente até 150°C. Um controlador de temperatura digital proporciona uma precisão de controlo de temperatura de ±1°C para condições de secagem consistentes após o revestimento.

• Controlo de Espessura ao Nível Micrométrico: A lâmina ajustável tem um intervalo de definição de espessura de 0 a 5 mm e uma precisão de controlo de espessura de revestimento de 0,01 mm. Isto suporta a preparação precisa de películas de investigação e revestimentos de elétrodos.

• Velocidade de Revestimento Ajustável: A velocidade de revestimento pode ser ajustada de 0 a 120 mm por segundo. Os investigadores podem adaptar o movimento de revestimento ao comportamento da pasta (slurry), à espessura da película pretendida e aos requisitos de desenvolvimento do processo.

• Controlo por PLC e Ecrã Tátil: A operação baseada em PLC e um interface de ecrã tátil tornam a definição e observação de parâmetros convenientes. O curso de revestimento de 0 a 300 mm também pode ser definido através do ecrã tátil.

• Fixação de Substrato a Vácuo: A placa plana de alumínio a vácuo mantém o substrato fixo de forma segura durante o revestimento. A colocação e remoção rápidas ajudam a simplificar a preparação de amostras e a reduzir o manuseamento desnecessário.

• Largura de Revestimento Padrão de 100 mm: A largura do dispositivo de revestimento padrão é de 100 mm, proporcionando um formato de trabalho prático para investigação laboratorial de películas e elétrodos, mantendo uma pegada de equipamento compacta.

• Design Estrutural Compacto: As dimensões totais de C550 mm × L350 mm × A320 mm ajudam a poupar espaço laboratorial valioso. O design geométrico tridimensional em chapa metálica proporciona uma aparência limpa e uma estrutura de equipamento organizada.

• Fornecimento de Vácuo Integrado: Uma bomba de vácuo isenta de óleo está incluída com o equipamento. Isto fornece uma fonte de vácuo dedicada para a fixação do substrato sem exigir a seleção de uma bomba adicional para a operação padrão.

Aplicações

Especificações Técnicas

Configuração do Equipamento

Desempenho de Revestimento e Aquecimento

Dados de Substrato Compatíveis

Procedimento Operacional

A sequência operacional separa a fixação do substrato, o revestimento da pasta e a secagem aquecida em fases claras. Esta disposição permite aos investigadores preparar uma amostra, completar o movimento de revestimento programado e, em seguida, aplicar a condição de secagem selecionada sem transferir o substrato revestido para uma plataforma de aquecimento separada. A placa de vácuo permanece a superfície de trabalho central durante todo o processo, suportando um manuseamento estável de folha de alumínio, folha de cobre e outros substratos de investigação dentro dos intervalos dimensionais indicados.

O intervalo de velocidade de revestimento ajustável permite o desenvolvimento de processos através de diferentes formulações de pasta e objetivos de película. Podem ser selecionadas velocidades mais baixas para a avaliação de processos onde é necessária uma deposição de material controlada, enquanto velocidades mais elevadas suportam uma preparação de amostras mais rápida quando a formulação e a condição de revestimento pretendida o permitem. O ajuste da lâmina e as definições do curso de revestimento podem ser configurados a partir do ecrã tátil, permitindo ao operador estabelecer um ponto de partida repetível para experiências comparativas.

A função de aquecimento inferior é particularmente relevante para programas de investigação que estudam a secagem e a formação de películas a temperaturas elevadas. O controlador digital apresenta a temperatura selecionada e a precisão de controlo de ±1°C indicada suporta condições térmicas consistentes entre experiências. Como o sistema de aquecimento está integrado sob a placa de vácuo, o substrato revestido pode permanecer fixo durante a fase de secagem, reduzindo o movimento adicional durante a preparação da amostra.

O design físico é também adequado para laboratórios com espaço de bancada limitado. A pegada de C550 mm × L350 mm × A320 mm combina o mecanismo de revestimento, a placa de vácuo, o sistema de aquecimento, os controlos e a bomba de vácuo incluída num formato compacto. O invólucro rígido de chapa metálica utiliza um design geométrico tridimensional que apresenta uma aparência limpa e organizada, protegendo simultaneamente a estrutura interna do equipamento durante a utilização laboratorial de rotina.

Porquê Escolher Este Produto

• Fluxo de Trabalho de Investigação Integrado: A fixação a vácuo, o revestimento programável, o controlo ajustável da lâmina e o aquecimento inferior são combinados numa única unidade, reduzindo as transferências entre fases de preparação separadas.

• Controlo de Processo Repetível: A velocidade de revestimento ajustável, a precisão de controlo da espessura de revestimento de 0,01 mm, o curso programável de 0 a 300 mm e a precisão de controlo de temperatura de ±1°C fornecem definições de processo mensuráveis para investigação comparativa.

• Estabilidade do Substrato: A placa plana de alumínio a vácuo ajuda a manter as folhas de elétrodos fixas de forma segura durante o revestimento e a secagem, suportando um manuseamento consistente de amostras em estudos de folha de alumínio e folha de cobre.

• Pegada Laboratorial Eficiente: As dimensões totais compactas e a bomba de vácuo isenta de óleo incluída simplificam a instalação onde o espaço de bancada e a integração do equipamento são considerações importantes.

Para uma cotação ou uma configuração de revestimento alinhada com os seus requisitos de investigação de películas, contacte a nossa equipa técnica para discutir uma solução adequada.

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